Quick Search: Journal  Author  Title/Abstract  Vol./Year 

Jpn. J. Appl. Phys. 49 (2010) 030001 (19 pages)  |Next Article|  |Table of Contents|
|Full Text PDF: FREE (1030K)|

Invited Review Paper

Radiation Chemistry in Chemically Amplified Resists

Takahiro Kozawa and Seiichi Tagawa

The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University, 8-1 Mihogaoka, Ibaraki, Osaka 567-0047, Japan

(Received June 17, 2009; accepted December 6, 2009; published online March 23, 2010)

Historically, in the mass production of semiconductor devices, exposure tools have been repeatedly replaced with those with a shorter wavelength to meet the resolution requirements projected in the International Technology Roadmap for Semiconductors issued by the Semiconductor Industry Association. After ArF immersion lithography, extreme ultraviolet (EUV; 92.5 eV) radiation is expected to be used as an exposure tool for the mass production at or below the 22 nm technology node. If realized, 92.5 eV EUV will be the first ionizing radiation used for the mass production of semiconductor devices. In EUV lithography, chemically amplified resists, which have been the standard resists for mass production since the use of KrF lithography, will be used to meet the sensitivity requirement. Above the ionization energy of resist materials, the fundamental science of imaging, however, changes from photochemistry to radiation chemistry. In this paper, we review the radiation chemistry of materials related to chemically amplified resists. The imaging mechanisms from energy deposition to proton migration in resist materials are discussed.

URL: http://jjap.jsap.jp/link?JJAP/49/030001/
DOI: 10.1143/JJAP.49.030001


|Full Text PDF: FREE (1030K)|  Citation:

References | Citing Articles (38)

  1. H. Ito and C. G. Willson: Polym. Eng. Sci. 23 (1983) 1012.
  2. H. Ito: Microlithography/Molecular Imprinting (Springer, Heidelberg, 2005) Advances in Polymer Science Series, Vol. 172, p. 37.
  3. J. Nakamura, H. Ban, K. Deguchi, and A. Tanaka: Jpn. J. Appl. Phys. 30 (1991) 2619[JSAP].
  4. L. Schlegel, T. Ueno, N. Hayashi, and T. Iwayanagi: J. Vac. Sci. Technol. B 9 (1991) 278[AIP Scitation].
  5. T. Itani: Microelectron. Eng. 86 (2009) 207.
  6. J. W. Thackeray, E. Aqad, M. F. Cronin, and K. Spear-Alfonso: J. Photopolym. Sci. Technol. 21 (2008) 415.
  7. K. Yamashita, S. Kamimura, H. Takahashi, and N. Nishikawa: J. Photopolym. Sci. Technol. 21 (2008) 439.
  8. D. Shimizu, K. Maruyama, A. Saitou, T. Kai, T. Shimokawa, K. Fujiwara, Y. Kikuchi, and I. Nishiyama: J. Photopolym. Sci. Technol. 20 (2007) 423.
  9. H. Oizumi, Y. Tanaka, T. Kumise, D. Shiono, T. Hirayama, H. Hada, J. Onodera, A. Yamaguchi, and I. Nishiyama: J. Photopolym. Sci. Technol. 20 (2007) 403.
  10. V. Auželytė, P. Sahoo, M. Saidani, A. Weber, and H. H. Solak: presented at EUV Symp., 2008, RE-04.
  11. G. M. Gallatin: Proc. SPIE 5754 (2005) 38[AIP Scitation].
  12. S. Mori, T. Morisawa, N. Matsuzawa, Y. Kaimoto, M. Endo, T. Matsuo, K. Kuhara, and M. Sasago: J. Vac. Sci. Technol. B 16 (1998) 3739[AIP Scitation].
  13. T. Yamaguchi, K. Yamazaki, and H. Namatsu: J. Vac. Sci. Technol. B 22 (2004) 2604[AIP Scitation].
  14. H. Shiraishi, T. Yoshimura, T. Sakamizu, T. Ueno, and S. Okazaki: J. Vac. Sci. Technol. B 12 (1994) 3895[AIP Scitation].
  15. T. Yoshimura, H. Shiraishi, J. Yamamoto, and S. Okazaki: Appl. Phys. Lett. 63 (1993) 764[AIP Scitation].
  16. T. Yoshimura, H. Shiraishi, J. Yamamoto, and S. Okazaki: Jpn. J. Appl. Phys. 32 (1993) 6065[JSAP].
  17. J. Cobb, P. Dentinger, L. Hunter, D. O'Connell, G. Gallatin, B. Hinsberg, F. Houle, M. Sanchez, W. D. Domke, S. Wurm, U. Okoroyanwu, and S. H. Lee: Proc. SPIE 4688 (2002) 412[AIP Scitation].
  18. C. A. Cutler, J. F. Mackevich, J. Li, D. J. O'Conell, and R. L. Brainard: Proc. SPIE 5037 (2003) 406[AIP Scitation].
  19. H. Yamamoto, T. Kozawa, A. Saeki, K. Okamoto, S. Tagawa, K. Ohmori, M. Sato, and H. Komano: Jpn. J. Appl. Phys. 46 (2007) 6187[JSAP].
  20. T. Yamaguchi, H. Namatsu, M. Nagase, K. Yamazaki, and K. Kurihara: Appl. Phys. Lett. 71 (1997) 2388[AIP Scitation].
  21. M. Ishida, K. Kobayashi, J. Fujita, Y. Ochiai, H. Yamamoto, and S. Tono: Jpn. J. Appl. Phys. 41 (2002) 4228[JSAP].
  22. T. Hirayama, D. Shiono, H. Hada, J. Onodera, and M. Ueda: J. Photopolym. Sci. Technol. 17 (2004) 435.
  23. K. Tsuchiya, S. W. Chang, N. M. Felix, M. Ueda, and C. K. Ober: J. Photopolym. Sci. Technol. 18 (2005) 431.
  24. H. Oizumi, F. Kumasaka, Y. Tanaka, T. Hirayama, D. Shiono, H. Hada, J. Onodera, A. Yamaguchi, and I. Nishiyama: Microelectron. Eng. 83 (2006) 1107.
  25. M. Toriumi, J. J. Santillan, T. Itani, T. Kozawa, and S. Tagawa: J. Vac. Sci. Technol. B 25 (2007) 2486[AIP Scitation].
  26. W. Hinsberg, F. A. Houle, J. Hoffnagle, M. Sanchez, G. Wallraff, M. Morrison, and S. Frank: J. Vac. Sci. Technol. B 16 (1998) 3689[AIP Scitation].
  27. S. C. Palmateer, S. G. Cann, J. E. Curtin, S. P. Doran, L. M. Eriksen, A. R. Forte, R. R. Kunz, T. M. Lyszczarz, M. B. Stern, and C. M. Nelson-Thomas: Proc. SPIE 3333 (1998) 634[AIP Scitation].
  28. T. B. Michaelson, A. R. Pawloski, A. Acheta, Y. Nishimura, and C. G. Willson: Proc. SPIE 5753 (2005) 368[AIP Scitation].
  29. J. Shin, G. Han, Y. Ma, K. Moloni, and F. Cerrina: J. Vac. Sci. Technol. B 19 (2001) 2890[AIP Scitation].
  30. T. Kozawa, A. Saeki, Y. Yoshida, and S. Tagawa: Jpn. J. Appl. Phys. 41 (2002) 4208[JSAP].
  31. A. Saeki, T. Kozawa, Y. Yoshida, and S. Tagawa: Jpn. J. Appl. Phys. 41 (2002) 4213[JSAP].
  32. T. Kozawa, A. Saeki, A. Nakano, Y. Yoshida, and S. Tagawa: J. Vac. Sci. Technol. B 21 (2003) 3149[AIP Scitation].
  33. T. Kozawa, A. Saeki, and S. Tagawa: J. Vac. Sci. Technol. B 22 (2004) 3489[AIP Scitation].
  34. T. Kozawa, H. Yamamoto, A. Saeki, and S. Tagawa: J. Vac. Sci. Technol. B 23 (2005) 2716[AIP Scitation].
  35. T. Kozawa and S. Tagawa: J. Appl. Phys. 99 (2006) 054509[AIP Scitation].
  36. T. Kozawa, S. Tagawa, J. J. Santillan, M. Toriumi, and T. Itani: J. Vac. Sci. Technol. B 25 (2007) 2295[AIP Scitation].
  37. T. Kozawa, H. Yamamoto, A. Saeki, and S. Tagawa: J. Photopolym. Sci. Technol. 19 (2006) 361.
  38. A. Saeki, T. Kozawa, S. Tagawa, and H. B. Cao: Nanotechnology 17 (2006) 1543[IoP STACKS].
  39. A. Saeki, T. Kozawa, S. Tagawa, and H. B. Cao: J. Vac. Sci. Technol. B 24 (2006) 3066[AIP Scitation].
  40. T. Kozawa, K. Okamoto, J. Nakamura, and S. Tagawa: Appl. Phys. Express 1 (2008) 067012[JSAP].
  41. T. Kozawa and S. Tagawa: Jpn. J. Appl. Phys. 47 (2008) 8354[JSAP].
  42. T. Kozawa, S. Tagawa, H. Oizumi, and I. Nishiyama: J. Vac. Sci. Technol. B 24 (2006) L27[AIP Scitation].
  43. T. Kozawa and S. Tagawa: Appl. Phys. Express 1 (2008) 107001[JSAP].
  44. T. Kozawa and S. Tagawa: Appl. Phys. Express 2 (2009) 056503[JSAP].
  45. J. L. Dektar and N. P. Hacker: J. Am. Chem. Soc. 112 (1990) 6004[CrossRef].
  46. J. L. Dektar and N. P. Hacker: J. Org. Chem. 55 (1990) 639.
  47. G. Buhr, R. Dammel, and C. Lindley: Polym. Mater. Sci. Eng. 61 (1989) 269.
  48. F. M. Houlihan, A. Shugard, R. Gooden, and E. Reichmanis: Macromolecules 21 (1988) 2001.
  49. T. Sakamizu, H. Yamaguchi, H. Shiraishi, F. Murai, and T. Ueno: J. Vac. Sci. Technol. B 11 (1993) 2812[AIP Scitation].
  50. F. Ortica, J. C. Scaizno, G. Pohlers, J. F. Cameron, and A. Zampini: Chem. Mater. 12 (2000) 414.
  51. T. Aoai, A. Umehara, A. Kamiya, N. Matsuda, and Y. Aotani: Polym. Eng. Sci. 29 (1989) 887.
  52. N. P. Hacker and K. M. Welsh: Macromolecules 24 (1991) 2137.
  53. J. F. Cameron, N. Chan, K. Moore, and G. Pohlers: Proc. SPIE 4345 (2001) 106[AIP Scitation].
  54. Y. Matsui, H. Sugawara, S. Seki, T. Kozawa, S. Tagawa, and T. Itani: Appl. Phys. Express 1 (2008) 036001[JSAP].
  55. T. Kozawa, Y. Yoshida, M. Uesaka, and S. Tagawa: Jpn. J. Appl. Phys. 31 (1992) 4301[JSAP].
  56. S. Tagawa, S. Nagahara, T. Iwamoto, M. Wakita, T. Kozawa, Y. Yamamoto, D. Werst, and A. D. Trifunac: Proc. SPIE 3999 (2000) 204[AIP Scitation].
  57. P. Dentinger, G. Cardinale, C. Henderson, A. Fisher, and A. Ray-Chaudhuri: Proc. SPIE 3997 (2000) 588[AIP Scitation].
  58. R. Hirose, T. Kozawa, S. Tagawa, T. Kai, and T. Shimokawa: Jpn. J. Appl. Phys. 46 (2007) L979[JSAP].
  59. R. J. Hawryluk, A. M. Hawryluk, and H. I. Smith: J. Appl. Phys. 45 (1974) 2551[AIP Scitation].
  60. R. Shimizu, T. Ikuta, T. E. Everhart, and W. J. Devore: J. Appl. Phys. 46 (1975) 1581[AIP Scitation].
  61. K. Murata, D. F. Kyser, and C. H. Ting: J. Appl. Phys. 52 (1981) 4396[AIP Scitation].
  62. L. E. Williams, T. A. Callcott, J. C. Ashley, and V. E. Anderson: J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom. 49 (1989) 323.
  63. M. Aktary, M. Stepanova, and S. K. Dew: J. Vac. Sci. Technol. B 24 (2006) 768[AIP Scitation].
  64. G. A. C. Jones, S. Blythe, and H. Ahmed: J. Vac. Sci. Technol. B 5 (1987) 120[AIP Scitation].
  65. J. M. Ryan, A. C. F. Hoole, and A. N. Broers: J. Vac. Sci. Technol. B 13 (1995) 3035[AIP Scitation].
  66. B.-S. Kim, H.-S. Lee, J.-S. Wi, K.-B. Jin, and K.-B. Kim: Jpn. J. Appl. Phys. 44 (2005) L95[JSAP].
  67. T. H. P. Chang: J. Vac. Sci. Technol. 12 (1975) 1271[AIP Scitation].
  68. M. Parikh and D. F. Kyser: J. Appl. Phys. 50 (1979) 1104[AIP Scitation].
  69. S. A. Rishton and D. P. Kern: J. Vac. Sci. Technol. B 5 (1987) 135[AIP Scitation].
  70. J. A. McMillan, S. Johnson, and N. C. MacDonald: J. Vac. Sci. Technol. B 7 (1989) 1540[AIP Scitation].
  71. F. Koba, H. Yamashita, and H. Arimoto: Jpn. J. Appl. Phys. 44 (2005) 5590[JSAP].
  72. S. Tanuma, C. J. Powell, and D. R. Penn: Surf. Interface Anal. 21 (1994) 165.
  73. T. Kozawa, S. Tagawa, T. Kai, and T. Shimokawa: J. Photopolym. Sci. Technol. 20 (2007) 577.
  74. R. J. Hawryluk, H. I. Smith, A. Soares, and A. M. Hawryluk: J. Appl. Phys. 46 (1975) 2528[AIP Scitation].
  75. J. P. Jay-Gerin, T. Goulet, and I. Billard: Can. J. Chem. 71 (1993) 287.
  76. A. Mozumder: J. Phys. Chem. A 106 (2002) 7062[CrossRef].
  77. T. Shigaki, K. Okamoto, T. Kozawa, H. Yamamoto, and S. Tagawa: Jpn. J. Appl. Phys. 44 (2005) L1298[JSAP].
  78. T. Shigaki, K. Okamoto, T. Kozawa, H. Yamamoto, and S. Tagawa: Jpn. J. Appl. Phys. 45 (2006) 5445[JSAP].
  79. T. Kozawa, S. Tagawa, H. B. Cao, H. Deng, and M. J. Leeson: J. Vac. Sci. Technol. B 25 (2007) 2481[AIP Scitation].
  80. B. L. Henke, E. M. Gullikson, and J. C. Davis: At. Data Nucl. Data Tables 54 (1993) 181.
  81. N. N. Matsuzawa, H. Oizumi, S. Mori, S. Irie, S. Shirayone, E. Yano, S. Okazaki, A. Ishitani, and D. A. Dixon: Jpn. J. Appl. Phys. 38 (1999) 7109[JSAP].
  82. H. Yamamoto, T. Kozawa, S. Tagawa, H. Yukawa, M. Sato, and J. Onodera: Appl. Phys. Express 1 (2008) 047001[JSAP].
  83. T. Kozawa and S. Tagawa: Jpn. J. Appl. Phys. 47 (2008) 7822[JSAP].
  84. International Commission on Radiation Units and Measurements (ICRU) Report No. 31 (1979).
  85. M. Inokuti: Radiat. Res. 64 (1975) 6.
  86. M. Kimura, K. Kowari, M. Inokuti, I. K. Bronic, D. Srdoc, and B. Obelic: Radiat. Res. 125 (1991) 237.
  87. N. Saito and I. H. Suzuki: Radiat. Phys. Chem. 60 (2001) 291.
  88. I. H. Suzuki and N. Saito: Bull. Chem. Soc. Jpn. 58 (1985) 3210[CrossRef].
  89. I. H. Suzuki and N. Saito: Bull. Chem. Soc. Jpn. 60 (1987) 2989[CrossRef].
  90. T. Kozawa, T. Shigaki, K. Okamoto, A. Saeki, S. Tagawa, T. Kai, and T. Shimokawa: J. Vac. Sci. Technol. B 24 (2006) 3055[AIP Scitation].
  91. T. Kozawa, K. Okamoto, A. Saeki, and S. Tagawa: Jpn. J. Appl. Phys. 44 (2005) 3908[JSAP].
  92. G. C. Abel and K. Funabashi: J. Chem. Phys. 58 (1973) 1079[AIP Scitation].
  93. T. Goulet, I. Mattél, and J.-P. Jay-Gerin: Can. J. Phys. 68 (1990) 912.
  94. V. A. Rassolov and A. Mozumder: J. Phys. Chem. B 105 (2001) 1430[CrossRef].
  95. L. Onsager: Phys. Rev. 54 (1938) 554[APS].
  96. T. Kozawa, Y. Mizutani, M. Miki, T. Yamamoto, S. Suemine, Y. Yoshida, and S. Tagawa: Nucl. Instrum. Methods Phys. Res., Sect. A 440 (2000) 251.
  97. M. Uesaka, K. Tauchi, T. Kozawa, T. Kobayashi, T. Ueda, and K. Miya: Phys. Rev. E 50 (1994) 3068[APS].
  98. K. Okamoto, A. Saeki, T. Kozawa, Y. Yoshida, and S. Tagawa: Chem. Lett. 32 (2003) 834[CrossRef].
  99. K. Okamoto, T. Kozawa, A. Saeki, Y. Yoshida, and S. Tagawa: Radiat. Phys. Chem. 76 (2007) 818.
  100. Y. Yoshida, Y. Mizutani, T. Kozawa, A. Saeki, S. Seki, S. Tagawa, and K. Ushida: Radiat. Phys. Chem. 60 (2001) 313.
  101. A. Saeki, T. Kozawa, S. Kashiwagi, K. Okamoto, G. Isoyama, Y. Yoshida, and S. Tagawa: Nucl. Instrum. Methods Phys. Res., Sect. A 546 (2005) 627.
  102. A. Saeki, T. Kozawa, and S. Tagawa: Nucl. Instrum. Methods Phys. Res., Sect. A 556 (2006) 391.
  103. Y. Yoshida, S. Tagawa, H. Kobayashi, and Y. Tabata: Int. J. Radiat. Appl. Instrum., Part C 30 (1987) 83.
  104. W. M. Bartczak and A. Hummel: J. Chem. Phys. 87 (1987) 5222[AIP Scitation].
  105. W. M. Bartczak, M. Tachiya, and A. Hummel: Int. J. Radiat. Appl. Instrum., Part C 36 (1990) 195.
  106. M. Wojcik, W. M. Bartczak, and A. Hummel: J. Chem. Phys. 97 (1992) 3688[AIP Scitation].
  107. W. M. Bartczak and A. Hummel: J. Phys. Chem. 97 (1993) 1253[CrossRef].
  108. L. D. A. Siebbeles, W. M. Bartczak, M. Terrissol, and A. Hummel: J. Phys. Chem. A 101 (1997) 1619[CrossRef].
  109. P. Clifford, N. J. B. Green, and M. J. Pilling: J. Phys. Chem. 86 (1982) 1318[CrossRef].
  110. N. J. B. Green, M. J. Pilling, S. M. Pimblott, and P. Clifford: J. Phys. Chem. 93 (1989) 8025[CrossRef].
  111. A. Saeki, T. Kozawa, Y. Yoshida, and S. Tagawa: Nucl. Instrum. Methods Phys. Res., Sect. B 234 (2005) 285.
  112. T. Kozawa, K. Okamoto, A. Saeki, and S. Tagawa: Jpn. J. Appl. Phys. 48 (2009) 056508[JSAP].
  113. K. Natsuda, T. Kozawa, K. Okamoto, A. Saeki, and S. Tagawa: Jpn. J. Appl. Phys. 48 (2009) 06FC05[JSAP].
  114. H. Yamamoto, T. Kozawa, S. Tagawa, H. B. Cao, H. Deng, and M. J. Leeson: Jpn. J. Appl. Phys. 46 (2007) L142[JSAP].
  115. S. Tsuji, T. Kozawa, Y. Yamamoto, and S. Tagawa: J. Photopolym. Sci. Technol. 13 (2000) 733.
  116. A. Nakano, T. Kozawa, S. Tagawa, T. Szreder, J. F. Wishart, T. Kai, and T. Shimokawa: Jpn. J. Appl. Phys. 45 (2006) L197[JSAP].
  117. P. Fowles: Trans. Faraday Soc. 67 (1971) 428.
  118. R. Hirose, T. Kozawa, S. Tagawa, T. Kai, and T. Shimokawa: Appl. Phys. Express 1 (2008) 027004[JSAP].
  119. T. Kozawa and S. Tagawa: J. Photopolym. Sci. Technol. 18 (2005) 471.
  120. T. Kozawa, S. Tagawa, and M. Shell: Jpn. J. Appl. Phys. 47 (2008) 6288[JSAP].
  121. T. Kozawa, S. Tagawa, and M. Shell: Jpn. J. Appl. Phys. 46 (2007) L1143[JSAP].
  122. T. Kozawa, S. Tagawa, and M. Shell: J. Appl. Phys. 103 (2008) 084306[AIP Scitation].
  123. T. Shigaki, K. Okamoto, T. Kozawa, H. Yamamoto, S. Tagawa, T. Kai, and T. Shimokawa: Jpn. J. Appl. Phys. 45 (2006) 5735[JSAP].
  124. A. Nakano, K. Okamoto, Y. Yamamoto, T. Kozawa, S. Tagawa, T. Kai, and H. Nemoto: Jpn. J. Appl. Phys. 44 (2005) 5832[JSAP].
  125. S. Nagahara, Y. Sakurai, M. Wakita, Y. Yamamoto, S. Tagawa, M. Komura, E. Yano, and S. Okazaki: Proc. SPIE 3999 (2000) 386[AIP Scitation].
  126. S. Masuda, Y. Kawanishi, S. Hirano, S. Kamimura, K. Mizutani, S. Yasunami, and Y. Kawabe: Proc. SPIE 6153 (2006) 615342[AIP Scitation].
  127. M. Glodde, D. L. Goldfarb, D. R. Medeiros, G. M. Wallraff, and G. P. Denbeaux: J. Vac. Sci. Technol. B 25 (2007) 2496[AIP Scitation].
  128. R. Brainard, C. Higgins, E. Hassanein, R. Matyi, and A. Wüest: J. Photopolym. Sci. Technol. 21 (2008) 457.
  129. R. Hirose, T. Kozawa, S. Tagawa, D. Shimizu, T. Kai, and T. Shimokawa: Jpn. J. Appl. Phys. 47 (2008) 7125[JSAP].
  130. K. Natsuda, T. Kozawa, A. Saeki, S. Tagawa, T. Kai, and T. Shimokawa: Jpn. J. Appl. Phys. 47 (2008) 4932[JSAP].
  131. R. K. Wolff, M. J. Bronskill, and J. W. Hunt: J. Chem. Phys. 53 (1970) 4211[AIP Scitation].
  132. J. E. Aldrich, M. J. Bronskill, R. K. Wolff, and J. W. Hunt: J. Chem. Phys. 55 (1971) 530[AIP Scitation].
  133. R. K. Wolff, J. E. Aldrich, T. L. Penner, and J. W. Hunt: J. Phys. Chem. 79 (1975) 210[CrossRef].
  134. K. Y. Lam and J. W. Hunt: Int. J. Radiat. Phys. Chem. 7 (1975) 317.
  135. J. W. Hunt and W. J. Chase: Can. J. Chem. 55 (1977) 2080.
  136. C. D. Jonah, J. R. Miller, and M. S. Matheson: J. Phys. Chem. 81 (1977) 1618[CrossRef].
  137. M. A. Lewis and C. D. Jonah: J. Phys. Chem. 90 (1986) 5367[CrossRef].
  138. A. C. Chernovitz and C. D. Jonah: J. Phys. Chem. 92 (1988) 5946[CrossRef].
  139. C. D. Jonah, D. M. Bartels, and A. C. Chernovitz: Int. J. Radiat. Appl. Instrum., Part C 34 (1989) 145.
  140. W. H. Hamill: J. Phys. Chem. 73 (1969) 1341[CrossRef].
  141. A. Saeki, T. Kozawa, Y. Ohnishi, and S. Tagawa: J. Phys. Chem. A 111 (2007) 1229[CrossRef].
  142. H. Yamamoto, T. Kozawa, A. Nakano, K. Okamoto, S. Tagawa, T. Ando, M. Sato, and H. Komano: J. Vac. Sci. Technol. B 23 (2005) 2728[AIP Scitation].
  143. A. Nakano, K. Okamoto, T. Kozawa, and S. Tagawa: Jpn. J. Appl. Phys. 43 (2004) 4363[JSAP].
  144. H. Yamamoto, T. Kozawa, A. Saeki, S. Tagawa, T. Mimura, H. Yukawa, and J. Onodera: Jpn. J. Appl. Phys. 48 (2009) 06FC09[JSAP].
  145. H. Yamamoto, T. Kozawa, S. Tagawa, K. Ohmori, M. Sato, and H. Komano: Jpn. J. Appl. Phys. 46 (2007) L648[JSAP].
  146. H. Yamamoto, T. Kozawa, A. Nakano, S. Tagawa, T. Ando, M. Sato, and H. Komano: Jpn. J. Appl. Phys. 44 (2005) L842[JSAP].
  147. H. Yamamoto, T. Kozawa, K. Okamoto, A. Saeki, S. Tagawa, T. Ando, M. Sato, and H. Komano: J. Vac. Sci. Technol. B 24 (2006) 1833[AIP Scitation].
  148. Y. Matsui, S. Umeda, S. Seki, S. Tagawa, S. Ishikawa, and T. Itani: Jpn. J. Appl. Phys. 42 (2003) 3894[JSAP].
  149. R. R. Kunz: Proc. SPIE 5376 (2004) 1[AIP Scitation].
  150. T. Kozawa and S. Tagawa: Jpn. J. Appl. Phys. 47 (2008) 8328[JSAP].
  151. N. P. Hacker, D. C. Hofer, and K. M. Welsh: J. Photopolym. Sci. Technol. 5 (1992) 35.
  152. T. Kozawa, S. Nagahara, Y. Yoshida, S. Tagawa, T. Watanabe, and Y. Yamashita: J. Vac. Sci. Technol. B 15 (1997) 2582[AIP Scitation].
  153. H. Yamamoto, A. Nakano, K. Okamoto, T. Kozawa, and S. Tagawa: Jpn. J. Appl. Phys. 43 (2004) 3971[JSAP].
  154. K. Furukawa, T. Kozawa, S. Seki, and S. Tagawa: Appl. Phys. Express 1 (2008) 067001[JSAP].
  155. A. Nakano, T. Kozawa, K. Okamoto, S. Tagawa, T. Kai, and T. Shimokawa: Jpn. J. Appl. Phys. 45 (2006) 6866[JSAP].
  156. K. Okamoto, T. Kozawa, K. Natsuda, S. Seki, and S. Tagawa: J. Phys. Chem. B 112 (2008) 9275[CrossRef].
  157. G. Porter and F. J. Wright: Trans. Faraday Soc. 51 (1955) 1469.
  158. E. J. Land, G. Porter, and E. Strachan: Trans. Faraday Soc. 57 (1961) 1885.
  159. E. J. Land and G. Porter: Trans. Faraday Soc. 59 (1963) 2016.
  160. E. J. Land and M. Ebert: Trans. Faraday Soc. 63 (1967) 1181.
  161. W. T. Dixon and D. Murphy: J. Chem. Soc., Faraday Trans. 2 72 (1976) 1221.
  162. W. T. Dixon and D. Murphy: J. Chem. Soc., Faraday Trans. 2 74 (1978) 432.
  163. D. M. Holton and D. Murphy: J. Chem. Soc., Faraday Trans. 2 75 (1979) 1637.
  164. K. Kesper, F. Diehl, J. G. G. Simon, H. Specht, and A. Schweig: Chem. Phys. 153 (1991) 511.
  165. K. Maruyama, H. Furuta, and A. Osuka: Tetrahedron 42 (1986) 6149.
  166. G. N. R. Tripathi and R. H. Schuler: J. Phys. Chem. 91 (1987) 5881[CrossRef].
  167. L. C. T. Shoute and P. Neta: J. Phys. Chem. 94 (1990) 2447[CrossRef].
  168. O. Brede, H. Orthner, V. Zubarev, and R. Hermann: J. Phys. Chem. 100 (1996) 7097[CrossRef].
  169. M. R. Ganapathi, R. Hermann, S. Naumov, and O. Brede: Phys. Chem. Chem. Phys. 2 (2000) 4947.
  170. P. O'Neill, S. Steenken, and D. Schulte-Frohlinde: J. Phys. Chem. 79 (1975) 2773[CrossRef].
  171. J. Holcman and K. Sehested: J. Phys. Chem. 80 (1976) 1642[CrossRef].
  172. S. Takamuku, S. Komitsu, and S. Toki: Int. J. Radiat. Appl. Instrum., Part C 34 (1989) 553.
  173. M. Jonsson, J. Lind, T. Reitberger, T. E. Eriksen, and G. Merenyi: J. Phys. Chem. 97 (1993) 11278[CrossRef].
  174. O. Ito, S. Akiho, and M. Iino: J. Org. Chem. 54 (1989) 2436.
  175. E. Baciocchi, T. D. Giacco, and F. Elisei: J. Am. Chem. Soc. 115 (1993) 12290[CrossRef].
  176. W. F. Forbes and P. D. Sullivan: J. Am. Chem. Soc. 88 (1966) 2862[CrossRef].
  177. P. D. Sullivan and N. A. Brette: J. Phys. Chem. 79 (1975) 474[CrossRef].
  178. C. J. Schlesener and J. K. Kochi: J. Org. Chem. 49 (1984) 3142.
  179. A. Ronlan, J. Coleman, O. Hammerich, and V. D. Parker: J. Am. Chem. Soc. 96 (1974) 845[CrossRef].
  180. R. P. Buck and D. E. Wagoner: J. Electroanal. Chem. 115 (1980) 89.
  181. F. G. Bordwell and J.-P. Cheng: J. Am. Chem. Soc. 113 (1991) 1736[CrossRef].
  182. T. A. Gadosy, D. Shukla, and L. J. Johnston: J. Phys. Chem. A 103 (1999) 8834[CrossRef].
  183. M. R. Ganapathi, S. Naumov, R. Hermann, and O. Brede: Chem. Phys. Lett. 337 (2001) 335[CrossRef].
  184. S. G. Lias, J. F. Liebman, and R. D. Levin: J. Phys. Chem. Ref. Data 13 (1984) 695.
  185. S. Tagawa, S. Arai, A. Kira, M. Imamura, Y. Tabata, and K. Oshima: J. Polym. Sci., Part B 10 (1972) 295.
  186. E. S. E. van Beelen, T. A. Koblenz, S. Ingemann, and S. Hammerum: J. Phys. Chem. A 108 (2004) 2787[CrossRef].
  187. D. Li and J. Brisson: Polymer 39 (1998) 793.
  188. L. Singh, P. J. Ludovice, and C. L. Henderson: Proc. SPIE 5753 (2005) 319[AIP Scitation].
  189. H. Yamamoto, T. Kozawa, A. Nakano, K. Okamoto, S. Tagawa, T. Ando, M. Sato, and H. Komano: J. Vac. Sci. Technol. B 22 (2004) 3522[AIP Scitation].
  190. H. Yamamoto, T. Kozawa, A. Nakano, K. Okamoto, S. Tagawa, T. Ando, M. Sato, and H. Komano: Jpn. J. Appl. Phys. 44 (2005) 5836[JSAP].
  191. M. Ogasawara, M. Tanaka, and H. Yoshida: J. Phys. Chem. 91 (1987) 937[CrossRef].
  192. T. Ichikawa and H. Yoshida: J. Polym. Sci. A 28 (1990) 1185.
  193. M. Tabata, G. Nillson, A. Lund, and J. Sohma: J. Polym. Sci., Polym. Chem. Ed. 21 (1983) 3257.
  194. W. Sakai, A. Tsuchida, M. Yamamoto, and J. Yamauchi: J. Polym. Sci., Part A 33 (1995) 1969.
  195. R. B. Fox, L. G. Isaacs, and S. Stokes: J. Polym. Sci., Part A 1 (1963) 1079.
  196. A. Gupta, R. Liang, F. D. Tsay, and J. Moacanin: Macromolecules 13 (1980) 1696.
  197. A. Torikai, M. Ohno, and K. Fueki: J. Appl. Polym. Sci. 41 (1990) 1023.
  198. S. Tatro, G. Baker, K. Bisht, and J. Harmon: Polymer 44 (2003) 167.
  199. W. Chen and H. Ahmed: Appl. Phys. Lett. 62 (1993) 1499[AIP Scitation].
  200. D. R. S. Cumming, S. Thoms, S. P. Beaumont, and J. M. R. Weaver: Appl. Phys. Lett. 68 (1996) 322[AIP Scitation].
  201. S. Yasin, D. G. Hasko, and H. Ahmed: Appl. Phys. Lett. 78 (2001) 2760[AIP Scitation].
  202. M. Tanaka, H. Yoshida, and T. Ichikawa: Polym. J. 22 (1990) 835.
  203. G. Geuskens and C. David: Makromol. Chem. 165 (1973) 273.
  204. P. Y. Butyagin, A. M. Dubinskaya, and V. A. Radtsig: Russ. Chem. Rev. 38 (1969) 290.
  205. A. Chapiro: Radiation Chemistry of Polymeric Systems (Wiley, New York, 1962) p. 515.
  206. A. Nakano, K. Okamoto, T. Kozawa, and S. Tagawa: Jpn. J. Appl. Phys. 43 (2004) 3981[JSAP].
  207. W. D. Hinsberg, F. A. Houle, M. I. Sanchez, M. E. Morrison, G. M. Wallraff, C. E. Larson, J. A. Hoffnagle, P. J. Brock, and G. Breyta: Proc. SPIE 3999 (2000) 148[AIP Scitation].
  208. T. Ushirogouchi, K. Asakawa, M. Nakase, and A. Hongu: Proc. SPIE 2438 (1995) 609[AIP Scitation].
  209. B. D. Vogt, S. Kang, V. M. Prabhu, A. Rao, E. K. Lin, W. Wu, S. K. Satija, and K. Turnquest: J. Vac. Sci. Technol. B 25 (2007) 175[AIP Scitation].
  210. T. Kozawa, S. Tagawa, J. J. Santillan, and T. Itani: Jpn. J. Appl. Phys. 47 (2008) 5404[JSAP].
  211. A. Saeki, T. Kozawa, S. Tagawa, H. B. Cao, H. Deng, and M. J. Leeson: J. Appl. Phys. 104 (2008) 024303[AIP Scitation].
  212. Y. Kawai, A. Otaka, A. Tanaka, and T. Matsuda: Jpn. J. Appl. Phys. 33 (1994) 7023[JSAP].
  213. K. Asakawa, T. Ushirogouchi, and M. Nakase: Proc. SPIE 2438 (1995) 563[AIP Scitation].
  214. W. D. Hinsberg, F. A. Houle, M. I. Sanchez, and G. M. Wallraff: IBM J. Res. Dev. 45 (2001) 667.
  215. C. R. Szmanda, R. J. Kavanagh, J. F. Bohland, J. F. Cameron, P. Trefonas, III, and R. F. Blacksmith: Proc. SPIE 3678 (1999) 857[AIP Scitation].
  216. A. R. Pawloski, Christian, and P. F. Nealey: Chem. Mater. 13 (2001) 4154.
  217. J. Nakamura, H. Ban, and A. Tanaka: in Microelectronics Technology: in Polymers for Advanced Imaging and Packaging, ed. J. L. Brash and T. A. Horbett (American Chemical Society, Washington, D.C., 1995) ACS Symp. Ser., No. 614, p. 69.
  218. X. Shi: J. Vac. Sci. Technol. B 17 (1999) 350[AIP Scitation].
  219. S. Nagahara, L. Yuan, W. J. Poppe, A. Neureuther, Y. Kono, A. Sekiguchi, K. Fujiwara, T. G. Watanabe, K. Taira, S. Kusumoto, T. Nakano, and T. Shimokawa: Proc. SPIE 5753 (2005) 338[AIP Scitation].
  220. H. Yamamoto, T. Kozawa, A. Nakano, K. Okamoto, Y. Yamamoto, T. Ando, M. Sato, H. Komano, and S. Tagawa: Jpn. J. Appl. Phys. 43 (2004) L848[JSAP].
  221. K. Natsuda, T. Kozawa, K. Okamoto, and S. Tagawa: Jpn. J. Appl. Phys. 45 (2006) L1256[JSAP].
  222. K. Natsuda, T. Kozawa, K. Okamoto, and S. Tagawa: Jpn. J. Appl. Phys. 46 (2007) 7285[JSAP].
  223. T. Kozawa, M. Uesaka, Y. Yoshida, and S. Tagawa: Jpn. J. Appl. Phys. 32 (1993) 6049[JSAP].
  224. T. Kozawa, S. Tagawa, J. J. Santillan, M. Toriumi, and T. Itani: Jpn. J. Appl. Phys. 47 (2008) 4926[JSAP].
  225. T. Kozawa, S. Tagawa, J. J. Santillan, M. Toriumi, and T. Itani: Jpn. J. Appl. Phys. 47 (2008) 4465[JSAP].
  226. T. Kozawa, S. Tagawa, J. J. Santillan, and T. Itani: J. Vac. Sci. Technol. B 26 (2008) 2257[AIP Scitation].
  227. T. Kozawa and S. Tagawa: Jpn. J. Appl. Phys. 46 (2007) L1200[JSAP].
  228. T. Kozawa, A. Saeki, and S. Tagawa: Appl. Phys. Express 1 (2008) 027001[JSAP].
|TOP|  |Next Article|  |Table of Contents| |JJAP Home|
Copyright © 2013 The Japan Society of Applied Physics
Contact Information